|
1.4.2 绝缘栅型场效应管
|
|
结构:栅极与源极、栅极与漏极之间均采用SiO2绝缘层隔离而得名,又称MOS管。
特点:栅-源间输入电阻高,达1010 以上,温度稳定性好、集成工艺简单,广泛用于大规模和超大规模集成电路中。
分类:增强型管(N沟道和P沟道)和耗尽型管(N沟道和P沟道)。
增强型管定义:栅-源电压 为零时漏极电流为零。
耗尽型管定义:栅-源电压 为零时漏极电流不为零。
|
| 一、N沟道增强型MOS管 |
|
N沟道增强型MOS管结构示意图和符号如下图所示。在一块掺杂浓度较低的P型硅片(衬底)上扩散两个高掺杂的N+区,分别用金属导线引出源极S和漏极D,在两个N+区的表面覆盖一层很薄的的SIO2绝缘层,并在 SIO2绝缘层的上面制作一个金属电极,称之为栅极G。通常将衬底与源极接在一起使用。栅极和衬底各相当于一个极板,中间是绝缘层,形成电容。当栅-源电压变化时,将改变衬底靠近绝缘层处感应电荷的多少,从而控制漏极电流的大小。
|
|
|
| ★工作原理 |
|
|
|
这个反型层构成了漏-源之间的导电沟道。使沟道刚刚形成的栅-源电压称为开启电压 。 愈大,反型层愈厚,导电沟道电阻愈小。
|
|
|
|
★特性曲线与电流方程
|
|
如下图所示为N沟道增强型MOS管的转移特性曲线和输出特性曲线。
和 的关系为
是 =2 时的 。
|
|
|
|
二、N沟道耗尽型MOS管
|
|
三、P沟道MOS管
|
|
四、VMOS管
|
|
|
copyright@2003
广州民航职业技术学院通讯工程系
|
| |